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设备制造


CVD涂层设备简介

      我公司是拥有自主知识产权的CVD涂层设备生产制造的企业,从事着CVD技术开发和CVD设备制造。向国内外有尝转让CVD涂层技术和装备系统,并对操作及设备维修保养人员进行培训。该技术可提供CVD涂层有:TiC、TiCN、TiN、Al2O3单层及复合层。涂层产品包括:数控刀片、 模具、拉丝模、各种耐磨损、耐腐蚀零件。

一、设备构成

      主要设备产品有:加热炉;反应罐、四氯化钛蒸发器、氯化铝气体发生器、气体混合器、PLC控制系统、气体供给系统、废弃净化系统、真空泵、温控系统、气体流量调节面板、加热炉升降系统。

 

 

CVD涂层设备

 

 

 

常压CVD工程示意图

 

CVD气体混合管路

 

CVD工程PLC控制画面

 

  其他高品质配件

二、主要参数

 

 类  别

指  标

 JY180型有效空间

Ф180x450mm 

 JY360型有效空间

Ф360x550mm 

 涂层温度

800~1100℃ 

 涂层速度

1~8μm/h 

 涂层物质

TiC、TiCN、TiN、AL2O3
单层或多层 

 操作方式

PLC自动控制 

 使用电量

 35KW~50KW

附着力 

 100N以上

附属文件 

 使用指南;
涂层工艺指南;
安全技术指南;
标准涂层工艺表等

 

 

       我公司开发的CVD设备和技术,是在深入了解国内外CVD技术的基础上,自主研发的CVD设备。其设计原则可归纳如下:

      ◎ 所设计的设备,适合于中小型企业;
      ◎ 自动化水平达到保障连续生产的基础上,添加了设备和产品保护功能;
      ◎ 保证装置、结构件和零部件的可信赖性和经济性。

    本公司生产的CVD涂层设备,主要以生产TiC、TiCN、TiN涂层为主,同时也可以进行AL2O3涂层的生产。
    该设备可广泛应用于,模具、紧固件、机床刀片、小型工件的硬质合金涂层生产。

    该设备设计时考虑了反应罐、加热炉、气体供给系统和废气净化系统的完整性、实用性和安全性。反应罐内部结构的设计及废气净化处理系统是设计中的关键所在。

    本公司采用的是下进上出式气体供给方式,其优点如下:

    ◎ 反应罐内设有气体通道,可充分利用罐内的空间;
    ◎ 能够克服重力的影响,从而保证涂层厚度的均匀性;
    ◎ 作为常压法,能够保持反应罐内的气流速度为3cm/s的有利条件。



三、气体供给系统

    一次混合气体的压力,由结合混合器背压操作的自动阀来调整,从而维持一定的压力。

四、加热炉

    加热方式采用外罩加热方式,加热炉温度从上到下分5个控制区,分别由PID温度控制仪控制,温度数据由PLC主控系统来设定和控制。加热炉各部位温度的精确控制是能否获得最佳涂层效果的关键。这也是本公司核心技术之一。

五、真空系统

    由于是常压法,所以涂层过程中不需要真空。抽真空只用于生产前的空气置换。所用真空泵为小型旋转式真空泵。

六、自动控制系统(PLC)

    PLC控制系统,由我公司自行开发设计,基材进入反应罐以后的涂层操作,全部由PLC来控制。如,涂层全过程的监测、涂层工艺的管理、警报管理、部分操作试验等功能之外,还具有以下特点;

    ◎ 可存储最多8种常用的涂层工艺程序,可随时调用,还可随时修改;
    ◎ 具有可靠的保护功能:

      — 警报功能。警报功能有,显示文字和铃声提醒;警报的同时,操作工序自动进入保护程序;经过处理后,可继续完成剩余的涂层程序。

      — 程序中断功能。如果中途需要停止工程,可安全地中断程序。

      — 停电处理功能。途层过程中,当发生短时间停电,恢复供电后,可通过保护程序,继续完成剩余的涂层程序。(停电期间,反应罐内仍然自动通入惰性气体进行着产品保护。)

七、主要工艺流程简述

    ◎ 经过超声波清洗后的基材,盛装于钼制托架内,装入反应罐;

    ◎ 通过PLC设定涂层程序;

    ◎ 程序开始运行。由抽真空开始,罐内注入惰性气体,所有工程按程序自动运行。

    ◎ 升温过程是在惰性气体保护下进行。该过程可通过,可通过升温优化模式程序注入氢气,进行优化。

    ◎ 升温程序结束后,运行涂层程序。通过混合处理的气体,进入反应罐内,加热温度,也随着涂层工艺的要求进行自动调节。

    ◎ 涂层过程中产生的废气,进入废气处理系统。首先通过燃烧器进行燃烧处理,再通过碱性溶液的喷淋系统,进行中和溶解处理,使排放气体达到国家标准。

    ◎ 涂层结束后,惰性气体进入反应罐内,置换出反应气体,关闭出气阀门,在正压条件下进行冷却。